设备名称：原子层沉积系统设备

型号：PALD-150D

产地类型：国产

主要技术参数：

Power：380 V AC, 60 Hz, three-phase, 6 kw

Size of the substrate：6” wafer

Temperature of the substrate：RT to 500°C

Source Heater：RT to 200℃

Deposition Rate：1.2 Å /cycle at 200℃ and 0.2Torr (Al₂O₃)

Control route：Labview with Touch Screen

Source Bottle Number：3

Base Vacuum：< 5×10^-3Torr

Pneumatic valve：Swagelok Diaphragm Valves for ALD, Response time 5ms

Size(L×W×H)：750mm×630mm×1234mm

仪器配置：CW-6200水冷机

用途：

1. 半导体行业及光伏等行业的半导体薄膜制备；

2. 物理、材料等领域的二维材料薄膜制备及粉体材料表面包覆。